第 3 條
除經中央主管機關依本法第八條第一項公告免辦工廠登記者外,化粧品製造場所之廠房內,應符合下列規定:
- 一、天花板、牆壁及地板採用不易發生粉塵之建材,並保持平滑無裂痕。
- 二、配管選用表面平滑之材料,並力求隱蔽。
- 三、排水口有防止污水回流之設施。
第 13 條
- 1液劑化粧品製造場所,應具備下列設備:
- 一、液劑調配容器。
- 二、液劑澄清槽或瓷缸。
- 三、攪拌設備。
- 四、過濾設備。
- 五、定量充填(分裝)設備。
- 2前項化粧品製程有濃縮必要者,應設濃縮(減壓)裝置;有滅菌必要者,應設加壓滅菌機。
第 14 條
- 1乳劑化粧品製造場所,應具備下列設備:
- 一、攪拌乳化設備。
- 二、調勻設備。
- 三、定量充填(分裝)設備。
- 2前項化粧品製程有加熱必要者,應設加熱裝置;有過濾必要者,應設過濾裝置;有冷卻必要者,應設冷卻設備。
第 16 條
- 1油膏化粧品製造場所,應具備下列設備:
- 一、粉末研磨或超微粒磨粉設備。
- 二、篩粉設備及集塵設備。
- 三、調勻設備。
- 四、定量充填(分裝)設備。
- 2前項化粧品製程有加熱必要者,應設二重加熱釜;有裝置軟膏管必要者,應設軟膏管封閉設備。
第 20 條
- 1非手工香皂製造場所,應具備下列設備:
- 一、不銹鋼貯藏桶。
- 二、皂化設備。
- 三、乾燥設備。
- 四、添加香料、色料設備。
- 五、壓出機。
- 六、模製機。
- 七、切斷機。
- 2前項非手工香皂製程有鹽析必要者,應設鹽析設備;有輸送必要者,應設輸送機。